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四氟化碳|CF4
產(chǎn)品名稱：四氟化碳|CF4
其他名稱：四氟甲烷
分子式：CF4
UN NO：UN 1956
CAS NO：75-73-0
產(chǎn)品純度：99.999％
包裝說明：40L鋼瓶30kg/瓶
其他名稱：四氟甲烷
分子式：CF4
UN NO：UN 1956
CAS NO：75-73-0
產(chǎn)品純度：99.999％
包裝說明：40L鋼瓶30kg/瓶
訂購熱線：4006-377-517
四氟化碳|CF4
| 名稱 | 四氟化碳 |
| 其他名稱 | 四氟甲烷、R14、tetrafluoromethane、carbon tetrafluoride |
| 分子式 | CF4 |
| UN No | UN1956 |
| CAS No | 75-73-0 |
| 產(chǎn)品純度 | 99.99~99.999% |
| 包裝說明 | 47L DOT鋼瓶，鋼瓶尺寸23 × 130cm，316L SS材質(zhì)閥門，閥門型號CGA660；40L高壓無縫鋼瓶，凈重30kg/瓶，瓶頭閥是銅質(zhì)閥門是QF-2，出口螺紋是G5/8 |
產(chǎn)品說明:
四氟化碳是不燃燒的無色、無味的壓縮氣體，充裝于四氟化碳鋼瓶中，飽和蒸汽壓約壓力2000 psig。四氟化碳是目前微電子工業(yè)中用量大的等離子蝕刻氣體，可廣泛應(yīng)用于硅、二氧化硅、氮化硅，磷硅玻璃及鎢等薄膜材料的蝕刻，在電子器件表面清洗，太陽能電池的生產(chǎn)，激光技術(shù)、氣相絕緣、低溫制冷、泄漏檢驗劑、控制宇宙火箭姿態(tài)，印刷電路生產(chǎn)中的去污劑等方面也大量使用。由于四氟化碳的化學(xué)穩(wěn)定性，四氟化碳可用于金屬冶煉，例如：銅、不銹鋼，碳鋼、鋁、蒙乃爾等；還可用于塑料行業(yè)；如：合成橡膠、氯丁橡膠、聚氨基甲酸乙酯。
四氟化碳是不燃燒的無色、無味的壓縮氣體，充裝于四氟化碳鋼瓶中，飽和蒸汽壓約壓力2000 psig。四氟化碳是目前微電子工業(yè)中用量大的等離子蝕刻氣體，可廣泛應(yīng)用于硅、二氧化硅、氮化硅，磷硅玻璃及鎢等薄膜材料的蝕刻，在電子器件表面清洗，太陽能電池的生產(chǎn)，激光技術(shù)、氣相絕緣、低溫制冷、泄漏檢驗劑、控制宇宙火箭姿態(tài)，印刷電路生產(chǎn)中的去污劑等方面也大量使用。由于四氟化碳的化學(xué)穩(wěn)定性，四氟化碳可用于金屬冶煉，例如：銅、不銹鋼，碳鋼、鋁、蒙乃爾等；還可用于塑料行業(yè)；如：合成橡膠、氯丁橡膠、聚氨基甲酸乙酯。
四氟化碳用途
四氟化碳是目前微電子工業(yè)中用量大的等離子燭刻氣體，其高純氣及四氟化碳高純氣配高純氧氣的混合體。
1：在電子器件表面清洗、太陽能電池的生產(chǎn)、激光技術(shù)、氣相絕緣、低溫制冷、
泄漏檢驗劑、控制宇宙火箭姿態(tài)、印刷電路生產(chǎn)中的去污劑等方面也大量使用。
2：可廣泛應(yīng)用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及鎢薄膜材料的燭刻。對于硅和二氧化硅體系，采用CF4-H2反應(yīng)離子刻蝕時，通過調(diào)節(jié)兩種氣體的比例，可以獲得45：1的選擇性，這在刻蝕多晶硅柵極上的二氧化硅薄膜時很有用。
3：由于化學(xué)穩(wěn)定性極強，CF4還可以用于金屬冶煉和塑料行業(yè)等。
4.：四氟化碳的溶氧性很好，因此被科學(xué)家用于超深度潛水實驗代替普通壓縮空氣。目前已在老鼠身上獲得成功，在275米到366米的深度內(nèi)，小白鼠仍可安全脫險。
注意事項:
四氟化碳是不燃性壓縮氣體。儲存于陰涼、通風(fēng)倉間內(nèi)。倉內(nèi)溫度不宜超過60℃。遠離火種、熱源。防止陽光直射。應(yīng)與易燃或可燃物分開存放。驗收時要注意品名，注意驗瓶日期，先進倉的先發(fā)用。搬運四氟化碳時輕裝輕卸，防止鋼瓶及附件破損。泄漏時，應(yīng)迅速撤離泄漏污染區(qū)人員至上風(fēng)處，并進行隔離，嚴格限制出入。建議應(yīng)急處理人員戴自給正壓式呼吸器，穿一般作業(yè)工作服。盡可能切斷泄漏源。合理通風(fēng)，加速擴散。如有可能，即時使用。漏氣容器要妥善處理，修復(fù)、檢驗后再用。
四氟化碳的物理化學(xué)性質(zhì)
分子量：88.005
熔點(101.325kPa)： -186.8℃
沸點(101.325kPa)： -128.0℃
液體密度(-127.94℃，101.325kPa)：1603kg/m3
氣體密度(0℃，101.325kPa)： 3.946 kg/m3
相對密度(氣體，0℃，101.325kPa)： 3.05
氣液容積比(15℃，100kPa)：436 L/L
比容(21.1℃，101.325kPa)：0.2747m3/kg
臨界溫度： -45.6℃
臨界壓力： 3739kPa
臨界密度： 629kg/m3
壓縮系數(shù)：
四氟化碳是目前微電子工業(yè)中用量大的等離子燭刻氣體，其高純氣及四氟化碳高純氣配高純氧氣的混合體。
1：在電子器件表面清洗、太陽能電池的生產(chǎn)、激光技術(shù)、氣相絕緣、低溫制冷、
泄漏檢驗劑、控制宇宙火箭姿態(tài)、印刷電路生產(chǎn)中的去污劑等方面也大量使用。
2：可廣泛應(yīng)用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及鎢薄膜材料的燭刻。對于硅和二氧化硅體系，采用CF4-H2反應(yīng)離子刻蝕時，通過調(diào)節(jié)兩種氣體的比例，可以獲得45：1的選擇性，這在刻蝕多晶硅柵極上的二氧化硅薄膜時很有用。
3：由于化學(xué)穩(wěn)定性極強，CF4還可以用于金屬冶煉和塑料行業(yè)等。
4.：四氟化碳的溶氧性很好，因此被科學(xué)家用于超深度潛水實驗代替普通壓縮空氣。目前已在老鼠身上獲得成功，在275米到366米的深度內(nèi)，小白鼠仍可安全脫險。
注意事項:
四氟化碳是不燃性壓縮氣體。儲存于陰涼、通風(fēng)倉間內(nèi)。倉內(nèi)溫度不宜超過60℃。遠離火種、熱源。防止陽光直射。應(yīng)與易燃或可燃物分開存放。驗收時要注意品名，注意驗瓶日期，先進倉的先發(fā)用。搬運四氟化碳時輕裝輕卸，防止鋼瓶及附件破損。泄漏時，應(yīng)迅速撤離泄漏污染區(qū)人員至上風(fēng)處，并進行隔離，嚴格限制出入。建議應(yīng)急處理人員戴自給正壓式呼吸器，穿一般作業(yè)工作服。盡可能切斷泄漏源。合理通風(fēng)，加速擴散。如有可能，即時使用。漏氣容器要妥善處理，修復(fù)、檢驗后再用。
四氟化碳的物理化學(xué)性質(zhì)
分子量：88.005
熔點(101.325kPa)： -186.8℃
沸點(101.325kPa)： -128.0℃
液體密度(-127.94℃，101.325kPa)：1603kg/m3
氣體密度(0℃，101.325kPa)： 3.946 kg/m3
相對密度(氣體，0℃，101.325kPa)： 3.05
氣液容積比(15℃，100kPa)：436 L/L
比容(21.1℃，101.325kPa)：0.2747m3/kg
臨界溫度： -45.6℃
臨界壓力： 3739kPa
臨界密度： 629kg/m3
壓縮系數(shù)：
溫度℃ |
壓縮系數(shù) | |||
|
100kPa |
1000kPa |
5000kPa |
10000kPa | |
|
1 5 |
0.9981 |
0.9763 |
0.7832 |
0.6058 |
|
50 |
0.9988 |
0.9866 |
0.8717 |
0.7637 |
熔化熱(-186.8℃)： 7.609 kJ/kg
氣化熱(-127.94℃，101.325kPa)： 135.65 kJ/kg
比熱容(氣體，25℃，101.325kPa)：Cp=696 J/(kg·K)
Cv=602J/(kg·K)
比熱比(氣體，25℃，101.325kPa)：Cp/Cv=1.157
蒸氣壓(-180.65 C)：0.20 kPa
(-120℃)： 165 kPa
(-50℃)： 3220 kPa
粘度(101.325kPa，0℃，氣體)：0.0161 mPa·S
(-60.0℃，液體)：0.170 mPa·S
表面張力(-80.0℃)： 6.4 mN/m
導(dǎo)熱系數(shù)(101.325kPa，0℃)：0.01503 w/(m·K)
(液體，-60.0℃)：0.07196 w/(m·K)
折射率(-73℃)： 1.151
四氟化碳在常溫常壓下為無色無臭有輕微醚味的氣體。空氣中不燃燒，是比較穩(wěn)定的無毒物質(zhì)。但是在高溫時，或與可燃氣體一同燃燒時，分解出有毒的氟化物。在1000℃以上能與二氧化碳形成羰基氟。微溶于水，在25℃，101.325kPa時，水中溶解度為0.0015%(重量)。有輕微的水解作用。
四氟化碳制備方法：
1.由碳與氟反應(yīng)，或一氧化碳與氟反應(yīng)，或碳化硅與氟反應(yīng)，或氟石與石油焦在電爐里反應(yīng)，或二氟二氯甲烷與氟化氫反 應(yīng)，或四氯化碳與氟化銀反應(yīng)，或四氯化碳與氟化氫反應(yīng)，都能生成四氟化碳。四氯化碳與氟化氫的反應(yīng)在填有氫氧化鉻的高溫鎳管中進行，反應(yīng)后的氣體經(jīng)水洗、 堿洗除去酸性氣體，再通過冷凍，用硅膠除去氣體中的水分，最后經(jīng)精餾而得成品。
2.預(yù)先稱取5～10g的碳化硅粉末和0.1g的單質(zhì)硅粉，置于鎳盤中，使硅和碳化硅充分接觸后，將鎳盤放入蒙乃爾 合金反應(yīng)管中，向反應(yīng)管內(nèi)通入氟氣，氟氣先和單質(zhì)硅反應(yīng)，反應(yīng)放熱后，氟開始和碳化硅進行反應(yīng)，通入等體積的干燥氮氣以稀釋氟氣，使反應(yīng)繼續(xù)進行，生成氣 體通過液氮冷卻的鎳制捕集器冷凝，然后慢慢地氣化后，將其通過裝有氫氧化鈉溶液的洗氣瓶除去四氟化硅，隨后通過硅膠和五氧化二磷干燥塔得到最終產(chǎn)品。
3.以活性炭與氟為原料經(jīng)氟化反應(yīng)制備。在裝有活性炭的反應(yīng)爐中，緩緩?fù)ㄈ敫邼夥鷼猓⑼ㄟ^加熱器加熱、供氟速率和 反應(yīng)爐冷卻控制反應(yīng)溫度。產(chǎn)品經(jīng)除塵，堿洗除去HF、CoF2、SiF4、CO2等雜質(zhì)、再經(jīng)脫水可獲得含量約為85%的粗品。將粗品引入低溫精餾釜中進 行間歇粗餾，通過控制精餾溫度，除去O2、N2、H2，得到高純CF4。
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